半導體設備以及LCD設備之關鍵零組件及耗材多應用于前段制程,如:離子植入、微影顯像、化學氣相沉積成膜、蝕刻、濺鍍、洗凈、長晶等制程設備,其中有一大部份是使用在真空腔體環境中,也因在真空腔體環境下長時間使用化學氣體的情況下,腔體內部所需使用的零件就特別需要注意是否可以耐酸堿,耐腐蝕,耐磨擦…等。